在探測器制造加工工藝中，很多都涉及清洗技術(shù)，如芯片制作期間的基片清洗，外延生長片的清洗，鍍膜加工前基片的清洗，以及濾光片等光學(xué)元件加工的清洗等。

隨著科技的發(fā)展，半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)對清潔度的要求越來越高。也不斷有復(fù)雜的新洗凈系統(tǒng)和設(shè)備投入使用。在光學(xué)儀器、精密機械以及電子機械領(lǐng)域也越來越多地需要精密工業(yè)清洗。無論是半導(dǎo)體薄膜的生長還是基于半導(dǎo)體薄膜的器件制備，襯底的清洗和處理是必不可少的一個環(huán)節(jié)。

激光鏡片鍍膜前經(jīng)過一系列的清洗過程之后，在基片放入真空室的過程中以及在真空室抽取真空的過程中，裝入鍍膜設(shè)備真空室以及進行蒸鍍前，基片均有可能被二次污染，從而影響濾光片蒸鍍效果和薄膜特性，通常采用離子束清洗技術(shù)，對基片進行的最后一道處理，以消除二次污染，保證基片在鍍膜前的真正清潔。離子束清洗技術(shù)的清潔機理是: 吸附或黏附在基片上的污物在高能離子束的轟擊下脫離基片; 或通過高熱能的氧離子氧化污物分子，使它易于被離子碰撞而脫離基片。

光學(xué)濾光片的作用很大。廣泛用于攝影界。一些攝影大師拍攝的風(fēng)景畫，為什么主景總是那么突出，是怎樣做到的？這就用到了濾光片。比如你想用相機起拍一朵黃花，背景是藍天、綠葉，如果按照平常拍，就不能突出“黃花”這個主題，因為黃花的形象不夠突出。但是，如果在鏡頭前放一個黃色濾光片，阻擋一部分綠葉發(fā)出的綠光、藍天發(fā)出的藍光，而讓黃花發(fā)出的黃光大量通過，這樣，黃花就顯得十分明顯了，突出了“黃花”這個主題。

一般情況下，薄膜制備工藝決定了薄膜都具有柱狀的微結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)使薄膜內(nèi)部存在一定空隙，并造成薄膜器件光學(xué)特性和機械特性的不穩(wěn)定，因此對某些在特殊環(huán)境下使用的薄膜必須進行各種環(huán)境試驗。

1.恒溫恒濕試驗。它是最常規(guī)的環(huán)境試驗。一般在相對濕度95%，溫度為55度的環(huán)境下存放6-24小時；或在40度以下存放10天；或在室溫至80度的環(huán)境下做多次循環(huán)試驗，然后檢測薄膜樣品在試驗前后的膜層的機械和光學(xué)特性的變化。例如：對于要求較高的窄帶濾光片，就要進行恒溫恒濕試驗，然后測試其透射率峰值的位置變化及峰值大小的變化。

2.液體浸蝕。一般是在室溫下將薄膜樣品浸泡在每升含45g鹽的溶液中，或根據(jù)用戶要求在稀釋的酸或堿溶液中浸泡6-24小時，試驗后測試薄膜的光學(xué)特性和機械特性，并與試驗前測的數(shù)值進行比較。

3.溫度試驗測試。薄膜的熱膨脹系數(shù)一般比基底的熱膨脹系數(shù)大一個數(shù)量級，加之膜層存在的內(nèi)應(yīng)力，從而在高溫度情況下，使膜層與膜層之間可能形成位錯，因此薄膜在高溫度下使用時，必須經(jīng)過烘烤試驗。