光學(xué)薄膜是各種先進光電技術(shù)中不可缺少的一部分，它不僅能改善系統(tǒng)性能，而且是滿足設(shè)計目標(biāo)的必要手段，光學(xué)薄膜的應(yīng)用領(lǐng)域設(shè)及光學(xué)系統(tǒng)的各個方面，包括激光系統(tǒng)，光通信，光顯示，光儲存等，主要的光學(xué)薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等。它們在國民經(jīng)濟和國防建設(shè)中得到了廣泛的應(yīng)用，獲得了科學(xué)技術(shù)工作者的日益重視。

目前，光學(xué)鍍膜材料常用品種已達60余種，而且其品種、應(yīng)用功能還在不斷被開發(fā)。近年來以發(fā)展到了金屬膜系，當(dāng)金、銀、銅和鋁的厚度為7～20um時，其對可見光的透射率為50%，而紅外光透射率小于10%，這種薄膜已成功地應(yīng)用于阿波羅宇宙飛船的面板，用于透過部分可見光，而反射幾乎全部的紅外光以進行熱控制。以下本文主要介紹光學(xué)薄膜的特性原理及分類。

由薄的分層介質(zhì)構(gòu)成的，通過界面?zhèn)鞑ス馐活惞鈱W(xué)介質(zhì)材料，光學(xué)薄膜的應(yīng)用始于20世紀(jì)30年代，光學(xué)薄膜已經(jīng)廣泛用于光學(xué)和光電子技術(shù)領(lǐng)域，制造各種光學(xué)儀器。制備條要求件高而精。

光學(xué)薄膜的定義是：涉及光在傳播路徑過程中，附著在光學(xué)器件表面的厚度薄而均勻的介質(zhì)膜層，通過分層介質(zhì)膜層時的反射、透(折)射和偏振等特性，以達到我們想要的在某一或是多個波段范圍內(nèi)的光的全部透過或光的全部反射或偏振分離等各特殊形態(tài)的光。

彩色濾光片制造方法包括染色法、顏料分散法、印刷法、電鍍法、噴墨法等，其中顏料分散法由于在顏色特性、質(zhì)量、可靠性等方面均占有優(yōu)勢，因此成為目前彩色濾光片之主流制作方式，而所謂顏料分散法之彩色濾光片制造工程，包括黑色矩陣工程、RGB工程、后工程、出貨工程。

首先在黑色矩陣工程，是先在無堿之硼玻璃基板上以濺鍍形成氧化鉻/鉻之低反射二層膜，作為基板使用，此低反射二層膜即稱為Metal Black。